OES란 빛 방출 분석(Optical Emission Spectroscopy)의 의미로
- 원자, 이온, 분자들이 한 에너지 상태에서 다른 에너지 상태로 이동할 때에는
해당하는 에너지 준위 만큼의 에너지(빛)를 방출하게 됩니다.
- Plasma(빛) 상태를 관찰하여 정성적으로 분석하는 방식입니다.
OES의 응용분야
- 반도체 및 디스플레이 산업에서 Etcher(식각장비)의 End Point Detection(식각종료시점 검출)으로 응용.
- 동일 산업에서 CVD(화학증착장비)의 Chamber(챔버)로 외부 공기 유입을 검출하는 Leak Detection(누설 검출)으로 응용.
- CVD Chamber의 벽에 증착된 Polymer(폴리머)을 제거하기 위한 Chamber Cleaning목적으로도 응용.
보유기술(Technology)
- Plasma(플라즈마)의 광분석 및 진단 기술.
- 신호처리 및 제어 기술.
- 광 분석 및 제어용 Software 자체 기술.
- 공정장비와의 각종 Communication(통신) 기술: TCP/IP, SECS-I/II, HSMS, DIO, AIO, SIO, Etc...
- 20년 이상의 다양한 공정장비 제조사 및 소자업체와의 양산 경험.
- 숙련된 현장경험으로 고객지원이 가능한 전담 인원 보유.